메모리반도체 공정 핵심소재 기술자립 성공

스핀코팅 하드마스크 소재, 일본 등 외국 의존도 낮춘다

이성진 | 기사입력 2020/02/13 [11:22]

메모리반도체 공정 핵심소재 기술자립 성공

스핀코팅 하드마스크 소재, 일본 등 외국 의존도 낮춘다

이성진 | 입력 : 2020/02/13 [11:22]

 

국내 중소기업이 반도체 공공테스트베드인 나노종합기술원과 공동연구를 통해 메모리반도체용 핵심소재의 기술자립에 성공했다.

 

국내중소기업(DCT 머티리얼, 대표 이근수)과 나노종합기술원이 공동연구를 수행, 현재 수입에 의존 하고 있는  ‘고(高)종횡비 구조의 메모리반도체용 스핀코팅 하드마스크 소재’의 기술자립에 성공한 것.

 

이번에 개발된 소재는 기존 제품보다 평탄화 특성은 물론, 가격경쟁력도 우수해 그동안 일본 등 외국에 의존했던 메모리반도체용 하드마스크소재의 국산 대체가 가능해질 전망이다.

 

글로벌 반도체 기업들이 고집적·초미세화 공정을 적용한 반도체 소자를 생산하면서, 기존보다 개선된 성능과 새로운 특성의 하드마스크에 대한 수요가 증가하고 있고, 글로벌 시장규모도 지속적으로 확대되고 있다.

 

그동안 하드마스크 1세대 공정이 미세화 한계에 도달하면서, 2세대 공정 개발이 전 세계적으로 활발하게 진행되었지만, 국내 중소 소재기업이 활용하는 반도체소재 생산장비는 반도체 최종 생산기업이 보유하고 있는 장비에 비해 노후화 되어 양산 제품 검증요건을 충족시키기 어려웠다.

 


DCT 머티리얼은 나노종합기술원의 팹시설을 활용, 공동으로 기술개발을 추진하면서 최종 수요 대기업에 납품하기 위한 내열성, 평탄화율 등의 요구기준을 모두 충족하는 제품개발에 성공했다.

 

소재 개발을 주도한 DCT 머티리얼 관계자는 “나노종합기술원과의 협력을 통해 세계최고 수준을 뛰어넘는 제품개발에 성공했다"며 "향후 중소기업 지원 테스트베드가 확충된다면, 반도체 소재의 기술자립을 더욱 앞당길 수 있을 것"이라 기대했다.

 

과기정통부 고서곤 기초원천연구정책관은 “반도체 핵심 소재․부품․장비의 기술자립을 지원하기 위하여 나노종합기술원과 같은 나노인프라 기관을 적극적으로 활용할 계획”이라며, “특히, 지난해부터 추진 중인 12인치 반도체 테스트베드가 성공적으로 구축된다면, 국내 반도체 소재·부품·장비 산업경쟁력 제고에 크게 기여하게 될 전망”이라고 밝혔다.

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